近日，英特爾公司成功完成了兩臺史上最先進的光刻機安裝工作，每臺設備造價高達25億人民幣，引發全球半導體行業矚目。這兩臺尖端設備由英特爾與拓億科技聯合推進，標志著芯片制造技術邁入全新里程碑。

據悉，此次安裝的光刻機采用極紫外光（EUV）技術，能夠實現7納米及更先進制程的芯片生產。英特爾在設備調試階段曾公開展示內部結構，其開放態度被業界解讀為對自身技術護城河的充分自信。公司技術負責人表示：“通過展示核心部件，我們既展現了技術實力，也體現了對知識產權保護體系的信任。”

拓億科技作為合作方，在光刻機集成和工藝優化方面提供了關鍵技術支撐。該公司研發團隊透露，新設備將首先應用于高性能計算芯片的制造，預計可使芯片晶體管密度提升約2.3倍，能耗降低15%。

行業分析師指出，這筆總投資超過50億的設備投入，將顯著增強英特爾在先進制程領域的競爭力。與此同時，設備內部畫面的公開披露，反而成為企業技術自信的獨特宣傳策略，這種“不怕偷師”的底氣源于持續研發積累的專利壁壘和技術迭代速度。

隨著這兩臺光刻機正式投產，全球半導體產業格局或將迎來新的洗牌。英特爾計劃在2024年底前實現新產線的規模化量產，為下一代電子設備提供核心芯片支持。